1. 计算光学成像与微纳测量
计算光学成像与微纳测量融合光学调控、反演算法与微纳技术，通过“光学编码 + 计算重建”突破传统光学系统受波长、数值孔径与器件加工精度的限制，实现更高分辨率、更宽视场和更高灵敏度的微纳尺度检测。该方向重点面向半导体制造、生物医学成像及先进材料表征等需求，利用散射编码、部分相干衍射建模、学习型重建等方法，实现亚波长结构检测、弱相位成像与三维微纳缺陷分析，为新一代高通量、高精度测量提供关键技术支撑。
2. 极紫外数字全息光刻技术与应用
极紫外数字全息光刻以“全息光学 + 计算光刻”为核心，通过在掩模平面对EUV 波场进行编码并利用反演算法在硅片上直接重建目标图案，突破传统EUV投影光刻在高 NA、大口径镜面加工和系统复杂度方面的瓶颈。该技术具有结构更简、像差可计算补偿、视场灵活扩展等优势，可支持超高密度器件结构、三维结构光刻与新型光子器件制造。作为后EUV时代的潜在颠覆性路线，该方向为先进集成电路制造与战略性高端工艺提供重要技术储备。
3. 飞秒激光计算光场调控技术与装备
该方向利用飞秒激光的超短脉宽与高峰值功率特性，结合空间光调制、衍射光学元件和任意场生成算法，实现对三维光场的精确塑形，从而突破传统激光加工在加工自由度、精度与一致性方面的限制。通过引入数字全息、相位成像等在线检测手段以及学习型闭环补偿，实现微纳结构的高通量写入、纳米级加工精控和高一致性制造。技术成果已广泛面向光子芯片、微纳光栅、3D 功能材料与先进传感器等应用，为高端光子制造装备的发展提供核心支撑。
- [1] C. Chen, Y. Zhou, Y. Wang, H. Xia, H. Gu, and S. Liu, “Enhancing Monochroma
- [2] C. Chen, H. Gu, and S. Liu, “Ultra-simplified diffraction-based computation
- [3] C. Chen, Y. Zhou, W. Li, L. Liu, H. Gu, and S. Liu, “High throughput defect
- [4] C. Chen, H. Gu, and S. Liu, “Ultra-broadband diffractive imaging with unkno
- [5] C. Chen, H. Gu, and S. Liui, “Self-adaptive noise minimization for diffract
- 陈创创. 一种掩膜板缺陷检测和颗粒去除的装置及方法 (公开CN111158219A)
- 陈创创. 一种透镜系统和线扫机器视觉镜头(授权CN110531493B)
- 陈创创. 一种磁悬浮工件台和缺陷检测装置 (授权CN110441233B)
- 陈创创. 一种变焦筒镜、缺陷检测装置及缺陷检测方法 (授权CN110441234B)
- 谷洪刚，陈创创，刘世元，周玉. 一种光刻缺陷衍射光强差分检测方法 (授权CN114509921B
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