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一种聚吡咯修饰的石墨相氮化碳/钴铁双氢氧化物复合膜的制备及其应用
点击次数：
申请专利人：金袁锋,杨可心,郑智轩,张亦燊,杨雨松,孙敏,翟林峰
专利类型：发明
专利状态：授权专利
授权号：ZL202210349878.0
发明人数：8
是否职务专利：否
授权日期：2023-03-24
第一作者：张锋
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申请专利人：金袁锋,杨可心,郑智轩,张亦燊,杨雨松,孙敏,翟林峰
专利类型：发明
专利状态：授权专利
授权号：ZL202210349878.0
发明人数：8
是否职务专利：否
授权日期：2023-03-24
第一作者：张锋