极紫外数字全息光刻（EUV Holographic Lithography）是面向先进集成电路制造的新型光刻范式，旨在突破传统EUV投影光刻依赖“波长缩短 + NA 提升”的发展路径所面临的光学系统复杂度、像差控制和制造成本急剧上升等瓶颈。该技术以“全息光学 + 计算光刻”为核心理念，通过在掩模平面利用衍射光学结构对EUV 波场进行编码，再结合逆向传播与优化反演算法，在硅片上直接重建目标图形，实现高分辨图案的计算生成与无透镜成像。

与传统多镜面投影系统相比，数字全息光刻大幅减少光学构件数量，具备结构紧凑、像差可计算补偿、视场灵活可扩展的优势，有望显著降低EUV光刻机的研制难度和成本。同时，通过全息编码的自由度，可以实现大视场、高分辨、深度聚焦范围宽的计算曝光能力，支持下一代超高密度器件结构、三维结构光刻、元器件集成制造等新型工艺。

该方向被认为是突破后EUV时代光刻极限、支撑先进节点长期发展的潜在颠覆性技术，为国家先进制造、存储器工艺、新型器件加工等领域提供重要技术储备。