Course Introduction:通过本课程的学习，使学生对半导体器件和半导体集成电路的制造工艺及原理、工艺设备及工艺流程建立一个较为基础和全面的概念，并具有一定的简单器件结构分析、设计以及解决工艺问题的能力。主要讲授内容包括：半导体物理基础；半导体器件物理基础：PN结、双极型器件物理、场效应器件物理；集成电路工艺基础：扩散和离子注入两种掺杂技术；外延和氧化、PVD、CVD等薄膜生长技术的原理、工艺过程和影响质量的诸多因素；光刻和刻蚀微细图形转移技术；标准CMOS及双极工艺流程及集成电路工艺生产汇总等问题。并简单介绍了工艺集成技术和工艺技术的发展趋势等问题。
Schedule:2022-02-28:翠四教112;2022-03-02:翠四教112;2022-03-07:翠四教112;2022-03-09:翠四教112;2022-03-14:翠四教112;2022-03-16:翠四教112;2022-03-21:翠四教112;2022-03-23:翠四教112;2022-03-28:翠四教112;2022-03-30:翠四教112;2022-04-04:翠四教112;2022-04-06:翠四教112;2022-04-11:翠四教112;2022-04-13:翠四教112;2022-04-18:翠四教112;2022-04-20:翠四教112;2022-04-25:翠四教112;2022-04-27:翠四教112;2022-05-02:翠四教112;2022-05-04:翠四教112;2022-05-12:翠十二教203*
Teacher:张彦
School Year:2021-2022
Semester:Spring Term
Course number:2010642B
Credits:3.0
Course Type:Undergraduate Course:
Top-Quality Courses or Not:no
Maximum Number of Students:93
Required Class Hours:40.0